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李志坚

李志坚

(中国科学院院士、微电子技术专家)
李志坚院士
李志坚资料
  • 英文名:Li Zhijian
  • 国籍:中国民族
  • 籍贯:浙江宁波生肖
  • 出生信息:1928年5月1日,浙江宁波去世日期
  • 职业:科学家、电子学家
  • 母校:浙江大学 关键信息人物关系人物经历主要成就获得荣誉相关合集
    人物关系
    陈大同学生
    吴德馨学生
    郑厚植学生人物经历教育经历时间
  • 人物关系

    陈大同

    学生

    吴德馨

    学生

    郑厚植

    学生

    人物经历

    教育经历

    时间

    院校

    学位

    1951年

    浙江大学

    -

    1958年

    苏联列宁格勒大学

    博士

    工作经历

    清华大学教授。50年代初,在半导体薄膜光电导和光电机理研究中,提出电子晶粒间界理论,在此基础上研制成高信噪比PbS红外探测器。

    1959年研制成高超纯多晶硅。60年代从事硅器件研究,其中平面硅工艺及高反压硅高频三极管成果,促进了国内有关的研究和生产。

    1977年以后主要从事大规模、超大规模集成技术及器件物理的研究,领导、指导和直接参与了多种静态存储器,8位、16位高速微处理器、EEPROM和1兆位汉字ROM等超大规模集成电路芯片的研制工作,并取得成功。同时开发出3微米和1微米成套工艺技术。指导并发明半导体红外高速退火技术和设备。近期的研究包括:系统芯片集成和微电子机械技术。

    1991当选为中国科学院院士(学部委员)。

    主要成就

    科研成就

    科研综述

    50年代初,在半导体薄膜光电导和光电机理研究中,提出电子晶粒间界理论,在此基础上研制成高信噪比PbS红外探测器。

    1958年提倡中国半导体发展应以硅技术为主的思想(当时国际上半导体器件的主流是锗晶体管)。1958年研制出超纯多晶硅,1960年研制出硅合金晶体管,1962-1963年又研制成功硅平面工艺和高反压(150V)硅平面晶体管。这些工作对中国半导体器件的早期发展有重要的推动作用。

    1980年代在Si/Si02界面研究方面发表一系列论文,在国内外有相当影响。《MOS界面研究新技术》一文被选参加中美表面科学学术讨论会(美国科学院与中国科协主办),被特邀参加INFOS'91(该领域国际上最著名学术会议)和聘为国际顾问委员会委员,国内被邀编写专论。以上部分成果曾获国家教委科技进步奖二等奖。对Si/Si02界面电子隧道穿透进行了深入研究,研制成功2kEEPROM存贮器,获1988年国家教委科技进步奖二等奖。

    1996年国家安排IC卡研制,因EEPROM是其基本技术,清华大学得以在5个月内研制出全国第一块IC卡,显示了他在技术上的远见卓识。

    1980年代初即看到快速(瞬态)热处理(通常为长时期的“稳态”热处理)技术对深亚微米集成电路发展的重要意义,而后又发现当时通用的激光退火方法的局限性,从而与钱佩信一起发明了“半导体快速热处理技术和设备”,取得中、美两国专利,并获得1990年国家发明奖二等奖。该成果已在国内推广,该设备是一台国内当前唯一不要进口的VLSI 先进工艺设备,已推向国外市场。

    “六五”到“八五”3个五年计划期间,负责多项微电子技术和集成电路国家重点攻关任务。3次获得国家教委和电子部科技进步奖一等奖;“3微米LSI成套工艺技术和集成电路研究”获1987年国家科技进步奖二等奖;“1-1.5微米VLSI CMOS工艺及1兆位汉字库ROM”获1995年国家科技进步奖二等奖。

    1990年代开始他主持国家重大基金项目“系统集成技术研究”。这是当前微电子前沿课题,他们发表的一系列论文已受到国际注视。他本人的工作,尤其在“微机械电子系统”方面有不少发明创造,包括国内首先研制成功的“带有转速自检测机能的微静电马达”等一批工作,使中国进入这一领域先进行列。他在这方面已在国内外主要刊物发表论文近30篇,申请多项美国发明专利,获准的已有5项。

    他培养的大批优秀微电子人才中,有2名已当选为中国科学院院士。他亲自培养出的博士生,已有26名。

    主要学术论文、著作目录

    1. MOS大规模集成技术进展.见:MOS大规模集成技术(上册).北京:科学出版社,1984.

    2. 硅耗尽层少于产生率的强电场效应.半导体学报,1985,6(1):1.

    3. 硅耗尽层准二维系统室温电子隧道能谱.半导体学报,1985,6(3):236.

    4. MOS界面电荷瞬态谱方法.半导体学报,1985,6(5):458.

    5. MOS技术中的Si-Si02介面物理.见:半导体器件研究与发展.北京:科学出版社,1988.

    6. 一种新的MOS电流型逻辑电路.电子学报,1988,10(2),51.

    7. VLSI成品率统计中的缺陷成因效应及统计参数与面积的关系.半导体学报,1988,9(3):245.(合作者:张钟宣).

    8. 一种新的有沟道注入的短沟MOSFET的调电压解析模型电子学报,1990,18(11):9.(合作者:陈文同).

    9. A novel pressure sensor structure for integrated sensor Sensots and Actuatore. 1990, (A21-23):62.(with Wang Yuelin,Liu Litian)

    10. Defect free silicon film on silion dioxide formed by some melting recrystallization with high apeed, IEEE Trane, on Electron Devices.1990,ED37:952.(with Liu Lianjun, Qian Peixin).

    11. 90年代的微电子技术.中国科学院院报,1991(1):23.

    12. 一种基于浮栅NMOS晶体管的可编程神经网络芯的设计和应用.电子学报,1992,20(10):48.

    13. 滑雪崩应力下热电子注入引起的MOSFET退变特性研究.半导体学报,1993,14,12:723.(合作者:程玉华、要瑞伟).

    14. The on-ehip detection of micromotor rotational speed.Sensors and Actuators,1995,A48:81.(with Sun Xiqing,Liu Litian).

    15. 一种对称高分辨精度的多端电流MAX门和MIN门电路.半导体学报,1995,16,6:453.(合作者:李斌桥、石秉学).

    16. New methods for measuring mechanical properties of thin films in micro-machining, beam pull-in voltage (VPI)method and long beam deflection (LBD)method.Sensors and Actuators,1995,A48:137.(with Li Binqiao,shi Bingxue).

    17. BMHMT----Bi-MOS混合模式晶体管.电子学报,1995,23,11:11.(合作者:陈萍、刘理天).

    18. 一种模拟集成电路Hamming神经网络及其应用.半导体学报,1996,17(3):217.(合作者:李斌桥、石秉学).

    19. Design and fabrication of single wafer silicon condensor microphone using corrugated diaphragm.IEEE J.of MEMS,1996:5(3).(with Zou Quanbo,Liu Litian).

    学术论著

    主编出版了《半导体材料硅》《MOS大规模集成技术》《微电子技术中的MOS物理》等书,在国内外发表了论文200余篇。

    获得荣誉

    时间

    奖项全称

    获奖作品

    颁奖机构

    -

    国家发明二等奖和国家科技进步二等奖各一次

    -

    -

    -

    部委级科技进步一、二等奖各二次

    -

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    -

    3次获得国家教委和电子部科技进步奖一等奖

    -

    -

    1987年

    国家科技进步奖二等奖

    “3微米LSI成套工艺技术和集成电路研究”

    -

    1987年7月

    国家科学技术进步二等奖

    研究项目“大规模、超大规模集成电路研制及3微米工艺技术开发”

    -

    1990年

    国家发明奖二等奖

    -

    -

    1991年10月

    中国专利金奖

    “离子注入半导体瞬时退火设备”

    中华人民共和国专利局

    1993年12月

    国家电子工业部颁发的国家科学技术进步一等奖

    -

    -

    1995年

    国家科技进步奖二等奖

    “1-1.5微米VLSI CMOS 工艺及1兆位汉字库ROM”

    -

    该页面最新编辑时间为 2023年12月20日

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